Mehrkammer Ultraschallanlagen (Halbleiter / Semiconductor)

Entdecken Sie das umfassende Sortiment an Tauch-Nassbänken von Glogar, speziell entwickelt für die vielfältigen Reinigungsschritte und Oberflächenbehandlungsprozesse in der Halbleiterindustrie. Unsere hochmodernen Ultraschall-Mehrbadreinigungsanlagen (Nassbänke) sind sowohl für die Halbleiter-Batch-Produktion mit niedrigem als auch hohem Durchsatz verfügbar. Diese Anlagen sind optimal für die Reinigung von Voll- oder Halb-Waferkassetten in den Größen 6″, 8″ und 12″ konzipiert.

Unsere Ultraschallreinigungsanlagen bieten flexible Einsatzmöglichkeiten je nach Reinigungschemie (sauer oder alkalisch). Sie sind ideal für die Reinigung verschiedenster Substrattypen und -größen, darunter Silizium-Wafer, Glas-Wafer und Solarzellen.

Dank unseres bewährten und individuell anpassbaren Modulbaukonzepts können wir maßgeschneiderte Lösungen anbieten, die exakt auf die Anforderungen unserer Kunden zugeschnitten sind. Von manuellen Nassbänken über teilautomatische bis hin zu vollautomatischen Nassbänken – wir haben bereits zahlreiche erfolgreiche Kundenprojekte realisiert. Die Abfolge der nasschemischen Prozesse lässt sich individuell festlegen, um optimale Ergebnisse zu erzielen.

Die Feinstreinigung in unseren Anlagen kann mit oder ohne Ultraschall sowie Megaschall erfolgen, je nach spezifischen Anforderungen. Unsere Technologie garantiert eine gründliche und schonende Reinigung, die höchsten Standards entspricht.